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ProE-Vap 100 输送系统专为用于原子层沉积 (ALD) 和化学气相沉积 (CVD) 工艺的固体前体而设计。它为用于当前和未来技术节点的各种固体材料提供稳定的质量通量。固体前体由于其低蒸气压和有限的热稳定性而难以始终如一地输送到沉积室中。 ProE-Vap 系统克服了这些问题，提供了业内解决方案。与其他蒸发器相比，ProE-Vap 输送系统允许在较低温度下更稳定地输送更高的固体前体，从而降低 ALD 和 CVD 的拥有成本。它大限度地减少了化学浓度漂移，从而以更少的工具停机时间实现更高的晶圆产量。自 2008 年以来，ProE-Vap 在大批量制造环境中展示了高可靠性和强大的性能。它支持交付制造高度复杂的微电子器件制造所需的各种无机和过渡金属前体。

在较低温度下提供更高的质量通量

支持气动和手动阀门选项

良好的整体性能，在汽化器使用寿命期间具有一致的通量

能够利用前体并大限度地减少过热造成的分解